REACTIVE ION ETCHING OF INDIUM-TIN-OXIDE FILMS

被引：12

作者：

CALAHORRA, Z ^{[1
]}

MINAMI, E ^{[1
]}

WHITE, RM ^{[1
]}

MULLER, RS ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,BERKELEY SENSOR & ACTUATOR CTR,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2097042

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1839 / 1840

页数：2