STUDIES OF CHEMI-LUMINESCENCE ACCOMPANYING FLUORINE ATOM ETCHING OF SILICON

被引：76

作者：

DONNELLY, VM

FLAMM, DL

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.327282

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：5273 / 5276

页数：4

共 40 条

ARMSTRONG, RA ;

DAVIS, SJ .

[2]

BEENAKKER CWJ, COMMUNICATION

[3]

BERSIN RL, COMMUNICATION

[4]

BOYD H, 1979, SOLID STATE TECHNOL, V22, P133

[5]

BOYD H, TB151 MATH CO MATH T

[6]

BROWN HL, 1978, SOLID STATE TECHNOL, V21, P35

[7]

BUNYARD GB, 1977, SOLID STATE TECHNOL, V20, P53

[8]

Chase M.W., 1974, J PHYS CHEM REF DATA, V3, P311

[9] JANAF THERMOCHEMICAL TABLES, 1978 SUPPLEMENT [J].

CHASE, MW ;

CURNUTT, JL ;

MCDONALD, RA ;

SYVERUD, AN .

[10] INFRARED CHEMI-LUMINESCENCE FROM XEF2-SILICON-SURFACE REACTIONS [J].

CHUANG, TJ .