INVESTIGATION OF RADIATION-INDUCED INTERFACE STATES UTILIZING GATED-BIPOLAR AND MOS STRUCTURES

被引:17
作者
SIVO, LL
HUGHES, HL
KING, EE
机构
[1] BOEING CO, SEATTLE, WA 98124 USA
[2] USN, RES LAB, WASHINGTON, DC 20390 USA
关键词
D O I
10.1109/TNS.1972.4326850
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:313 / 319
页数:7
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