RADIOFREQUENCY REACTIVE SPUTTERING FOR DEPOSITION OF ALUMINIUM NITRIDE THINFILMS

被引：49
作者：
DUCHENE, J
机构：
来源：
THIN SOLID FILMS | 1971年 / 8卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(71)90098-8
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：69 / &
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