EFFECT OF ION-BOMBARDMENT ON THE STRUCTURE OF SPUTTERED TI-N FILMS

被引:9
作者
MUSIL, J [1 ]
POULEK, V [1 ]
KADLEC, S [1 ]
VYSKOCIL, J [1 ]
VALVODA, V [1 ]
CERNY, R [1 ]
KUZEL, R [1 ]
机构
[1] CHARLES UNIV, FAC MATH & PHYS, DEPT SEMICOND PHYS, CS-12116 PRAGUE 2, CZECHOSLOVAKIA
关键词
D O I
10.1016/0168-583X(89)90323-6
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
摘要
引用
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页码:897 / 901
页数:5
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