LASER ANNEALING OF DIFFUSION-INDUCED IMPERFECTIONS IN SILICON

被引：29

作者：

YOUNG, RT

NARAYAN, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.90164

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：14 / 16

页数：3

共 6 条

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