A RADIOISOTOPIC STUDY OF LEVELING IN BRIGHT NICKEL ELECTROPLATING BATHS

被引：31

作者：

BEACOM, SE

RILEY, BJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2427336

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：309 / 314

页数：6

共 26 条

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