E-BEAM DEPOSITION CHARACTERISTICS OF REACTIVELY EVAPORATED TA2O5 FOR OPTICAL INTERFERENCE COATINGS

被引：32
作者：
HERRMANN, WC
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 03期
关键词：
D O I：
10.1116/1.570921
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：1303 / 1305
页数：3
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共 4 条
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