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DIELECTRIC-BREAKDOWN PHENOMENA IN SIO2
被引：0
作者：
DISTEFANO, TH
SCHATZKES, M
机构：
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
[2] TECHNION ISRAEL INST TECHNOL,HAIFA,ISRAEL
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
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页码：C115 / C115
页数：1
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