PHOTOLITHOGRAPHIC CONTACT PRINTING OF 4000A LINEWIDTH PATTERNS

被引：39

作者：

SMITH, HI ^{[1
]}

EFREMOW, N ^{[1
]}

KELLEY, PL ^{[1
]}

机构：

[1] MIT, LINCOLN LAB, LEXINGTON, MA 02173 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2401719

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1503 / 1506

页数：4

共 20 条

[1] DIFFRACTION THEORY [J].

BOUWKAMP, CJ .

[2]

BREWER GR, 1971, IEEE SPECTRUM, V8, P23, DOI 10.1109/MSPEC.1971.5217844

[3] MICROCIRCUITS BY ELECTRON-BEAM [J].

BROERS, AN ;

HATZAKIS, M .

[4]

DILL FH, 1974, MAY INT MAGN C TOR C

[5]

DILL FH, 1973, 15 DEV RES C U COL

HERRICK, CE .

[7] ELECTROMAGNETIC NEAR-FIELD DIFFRACTION OF A MEDIUM SLIT [J].

LIN, BJ .

[8]

LIN BJ, PERSONAL COMMUNICATI

MIDDELHOEK, S .

[10]

NEUREUTHER AR, 1974, 23 P MICR RES I S NE