THE DEPENDENCE OF DEPOSITION RATE ON POWER INPUT FOR DC AND RF MAGNETRON SPUTTERING

被引：28
作者：
NYAIESH, AR
HOLLAND, L
机构：
来源：
VACUUM | 1981年 / 31卷 / 07期
关键词：
D O I：
10.1016/S0042-207X(81)80503-9
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：315 / 317
页数：3
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共 4 条
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