ELECTRON-IRRADIATION DOPING WITH CARBON IN CHEMICAL BEAM EPITAXY

被引：0

作者：

IIMURA, Y

NAGATA, K

DEN, S

AOYAGI, Y

NAMBA, S

机构：

来源：

ADVANCES IN MATERIALS, PROCESSING AND DEVICES IN III-V COMPOUND SEMICONDUCTORS | 1989年 / 144卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

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