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PAD MATERIALS FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING
被引：0
作者：
MENDEL, E
[1
]
KAPLAN, P
[1
]
PATSIS, A
[1
]
机构：
[1] IBM CORP, E FISHKILL FACIL, Hopewell Jct, NY 12533 USA
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C128 / C128
页数：1
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