CHARACTERIZATION OF INN, IN2O3, AND IN OXY-NITRIDE SEMICONDUCTING THIN-FILMS USING XPS ELECTRON-ENERGY LOSS SPECTRA

被引：12

作者：

BARR, TL

NATARAJAN, BR

ELTOUKHY, AH

GREENE, JE

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT COORDINATED SCI LAB,URBANA,IL 61801

[2] UNIV ILLINOIS,DEPT MET,URBANA,IL 61801

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570024

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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