PHYSICAL AND CHEMICAL SPUTTERING AT VERY LOW ION ENERGY - THE IMPORTANCE OF THE SPUTTERING THRESHOLD

被引：0
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作者：
STEINBRUCHEL, C
机构：
来源：
LASER- AND PARTICLE-BEAM CHEMICAL PROCESSES ON SURFACES | 1989年 / 129卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ; 081704 ;
摘要：
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页码：477 / 481
页数：5
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