TRIMMING BEHAVIOR AND POST-TRIM CHARACTERISTICS OF TA2N RESISTORS ON SILICON

被引：6

作者：

KESTENBAUM, A ^{[1
]}

BAER, TF ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,READING,PA 19604

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS HYBRIDS AND MANUFACTURING TECHNOLOGY | 1980年 / 3卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1109/TCHMT.1980.1135665

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：637 / 646

页数：10

共 7 条

[1]

BERRY RW, 1968, THIN FILM TECHNOLOGY, P490

[2] STABILITY ANALYSIS OF LASER TRIMMED THIN-FILM RESISTORS [J].

BULGER, GA .

IEEE TRANSACTIONS ON PARTS HYBRIDS AND PACKAGING, 1975, 11 (03) :172-177

[3]

Hall P.M., 1968, THIN SOLID FILMS, V1, P277, DOI [10.1016/0040-6090(68)90046-1, DOI 10.1016/0040-6090(68)90046-1]

[4]

HOLLOWAY P, 1976 IEEE INT SOL ST, P106

KESTENBAUM, A .

[6]

KESTENBAUM A, 1980, IEEE T COMPON HYBR, V3, P166, DOI 10.1109/TCHMT.1980.1135579

[7]

WEBB RW, 1978 IEEE INT SOL ST, P142