OPTICAL LITHOGRAPHY STALLS X-RAYS

被引：1

作者：

FLORES, GE

KIRKPATRICK, B

机构：

来源：

IEEE SPECTRUM | 1991年 / 28卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1109/6.90211

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

Ultraviolet lithography puts 0.5-micrometer lines on ICs in the factory, 0.35-mu-m lines in the laboratory. The huge investment in X-ray lithography for production can wait until 2000.

引用

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