LARGE-SCALE SPUTTERING OF INDIUM-TIN OXIDE

被引：11

作者：

GILLERY, FH

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569577

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：306 / 308

页数：3

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共 2 条

[1] ABSTRACT - ELECTRON EFFECTS IN SPUTTERING [J].

CHAPMAN, BN ;

DOWNER, D ;

GUIMARAE.LJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (01) :42-42

[2]

GILLERY FH, 1975, Patent No. 3907660