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THICKNESS FLUCTUATIONA AND ELECTRIC FIELD PENETRATION IN THIN METAL-INSULATOR-METAL STRUCTURES
被引：7
|作者：
ANTULA, J
机构：
关键词：
D O I：
10.1016/0038-1101(68)90128-7
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：1063 / &
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