INSPECTION FOR DEFECTS OF A MASK CONTAINING ONE MICROMETER PATTERN TO SUBMICROMETER PATTERNS USING A SCANNING ELECTRON-MICROSCOPE AND FEATURE EXTRACTION METHOD

被引：7

作者：

GOTO, Y

FURUKAWA, Y

INAGAKI, T

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569683

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：953 / 956

页数：4

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共 4 条

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