DEPOSITION OF ZIRCONIUM BORIDE THIN-FILMS BY DIRECT-CURRENT TRIODE SPUTTERING

被引：17
作者：
CHAKRABARTI, UK
BARZ, H
DAUTREMONTSMITH, WC
LEE, JW
KOMETANI, TY
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1116/1.574103
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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页码：196 / 201
页数：6
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