P-TYPE AND N-TYPE SILICON AND THE FORMATION OF THE PHOTOVOLTAIC BARRIER IN SILICON INGOTS

被引:0
作者
ELLIS, WC
SCAFF, JH
ROBERTSON, WD
STAUSS, HE
BLOOM, MC
机构
来源
JOURNAL OF METALS | 1950年 / 2卷 / 08期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TF [冶金工业];
学科分类号
0806 ;
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共 1 条
[1]  
PEARSON GL, 1949, PHYS REV, V75, P965