INTERFACE RECOMBINATION VELOCITY AND DIFFUSION CONSTANT IN HI-LO AND P+/N GAAS JUNCTIONS MEASURED BY A MICROWAVE TECHNIQUE

被引：0

作者：

VENKATSUBRAMANIAN, R

BOTHRA, S

GHANDHI, SK

BORREGO, JM

机构：

来源：

CONFERENCE RECORD OF THE TWENTIETH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE - 1988, VOLS 1-2 | 1988年

关键词：

D O I：

10.1109/PVSC.1988.105791

中图分类号：

TE [石油、天然气工业]; TK [能源与动力工程];

学科分类号：

0807 ; 0820 ;

摘要：

引用

页码：689 / 694

页数：6