LASER ANNEALING OF POLYSILICON ON OXIDE LAYERS

被引：0

作者：

SCHOTT, JT ^{[1
]}

机构：

[1] SPERRY RAND CORP,RES CTR,SUDBURY,MA 01776

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1980年 / 127卷 / 08期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C385 / C385

页数：1

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