THE EFFECT OF CHLORIDE IONS ON COPPER DEPOSITION

被引：32
作者：
GAUVIN, WH
WINKLER, CA
机构：
来源：
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1952年 / 99卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1149/1.2779668
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
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页码：71 / 77
页数：7
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