STUDY OF DOPED AND IMPLANTED III-V SEMICONDUCTORS BY ELECTROREFLECTANCE LINESHAPE ANALYSIS

被引：0

作者：

BROWN, R ^{[1
]}

SCHOONVELD, L ^{[1
]}

ABELS, LL ^{[1
]}

SUNDARAM, S ^{[1
]}

RACCAH, PM ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,CHICAGO,IL 60680

来源：

BULLETIN OF THE AMERICAN PHYSICAL SOCIETY | 1980年 / 25卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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