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THERMAL-DEGRADATION OF TISI2/POLY-SI GATES
被引：0
作者：
NYGREN, S
NORSTROM, H
OSTLING, M
CHATFIELD, C
RYDEN, KH
BUCHTA, R
PETERSSON, CS
机构：
来源：
VIDE-SCIENCE TECHNIQUE ET APPLICATIONS
|
1987年
/
42卷
/
236期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
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页码：179 / 181
页数：3
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