CONTOUR MAPS REVEAL NONUNIFORMITY IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

被引：0

作者：

PERLOFF, DS ^{[1
]}

WAHL, FE ^{[1
]}

REIMER, JD ^{[1
]}

机构：

[1] SIGNETICS CORP,SUNNYVALE,CA 94086

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：31 / 36

页数：6

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共 6 条

[1] PLANAR 4-PROBE TEST STRUCTURE FOR MEASURING BULK RESISTIVITY
BUEHLER, MG
THURBER, WR
[J]. IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 1976, 23 (08) : 968 - 974
[2] Crossley P. A., 1973, Journal of Electronic Materials, V2, P465
[3] HAM WE, 1976, NBS40015 SPEC PUBL
[4] MATARE HF, 1971, DEFECT ELECTRONICS S
[5] PERLOFF DS, 1976, 7TH P INT C EL ION B
[6] Wolfe G., 1976, Circuits Manufacturing, V16