AN ION-IMPLANTED TI-W SILICON SCHOTTKY-BARRIER DIODE

被引:0
|
作者
LI, SS
KIM, JS
KREPS, SA
机构
[1] UNIV FLORIDA,GAINESVILLE,FL 32611
[2] HARRIS SEMICOND,MELBOURNE,FL 32901
关键词
D O I
10.1109/T-ED.1980.20242
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:2200 / 2200
页数:1
相关论文
共 50 条