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RF SPUTTERING USING A DOUBLE-ENDED SUPPLY
被引：0
作者：
LOTHROP, CF
HERTE, LF
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
|
1967年
/
4卷
/
05期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：338 / &
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