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SILICON DEPOSITION MECHANISMS WITH APPLICATIONS TO LOW-PRESSURE CVD
被引：0
作者：
COLTRIN, ME
BREILAND, WG
MOFFAT, HK
HOUF, WG
GRCAR, JF
机构：
[1] SANDIA NATL LABS,ALBUQUERQUE,NM 87185
[2] SANDIA NATL LABS,LIVERMORE,CA 94550
来源：
ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
|
1991年
/
201卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O6 [化学];
学科分类号：
0703 ;
摘要：
引用
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页码：241 / PHYS
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