X-RAY SILICON TARGET PREPARATION FOR X-RAY LITHOGRAPHIC SYSTEM

被引：2

作者：

YOSHIHARA, H

KIUCHI, M

SAITO, Y

NAKAYAMA, S

机构：

[1] Musashino Electrical Communication Laboratory, Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.18.2021

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：2021 / 2022

页数：2

共 3 条

MAYDAN, D ;

COQUIN, GA ;

MALDONADO, JR ;

SOMEKH, S ;

LOU, DY ;

TAYLOR, GN .

[2] OPTIMIZED SOURCE FOR X-RAY LITHOGRAPHY OF SMALL AREA DEVICES [J].

SULLIVAN, PA ;

MCCOY, JH .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1325-1328

[3] SYNTHESIS OF SIC FILMS BY PLASMA DEPOSITION PROCESS [J].

YOSHIHARA, H ;

MORI, H ;

KIKUCHI, M .