COMPARISON OF DIFFERENT X-RAY SOURCES USING THE SAME PRINTING PROCESS PARAMETERS

被引：14

作者：

CULLMANN, E ^{[1
]}

KUNNETH, T ^{[1
]}

NEFF, W ^{[1
]}

STEPHAN, KH ^{[1
]}

机构：

[1] MAX PLANCK INST EXTRATERR PHYS,GARCHING,FED REP GER

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583797

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：638 / 640

页数：3