EFFECTS OF TA ADDITION IN CONI/CR DOUBLE-LAYER FILM SPUTTERED IN LOW AR GAS-PRESSURE

被引：7

作者：

KAWANABE, T

NAOE, M

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/20.92224

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2721 / 2723

页数：3

共 6 条

BELK, NR ;

GEORGE, PK ;

MOWRY, GS .

[2]

Hansen M., 1958, J ELECTROCHEM SOC, DOI DOI 10.1149/1.2428700

[3]

KAWANABE T, IN PRESS 5TH P JAP I

[4] THIN EVAPORATED FILMS WITH HIGH COERCIVE FORCE [J].

LAZZARI, JP ;

MELNICK, I ;

RANDET, D .

[5]

MALONEY WT, 1979, IEEE T MAGN, V15, P1355

NAOE, M ;

YAMANAKA, SI ;

HOSHI, Y .