SURFACE PROTECTION AND SELECTIVE MASKING DURING DIFFUSION IN SILICON

被引：139

作者：

FROSCH, CJ

DERICK, L

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1957年 / 104卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2428650

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

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页码：547 / 552

页数：6

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共 6 条

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