SURFACE PROTECTION AND SELECTIVE MASKING DURING DIFFUSION IN SILICON

被引：139

作者：

FROSCH, CJ

DERICK, L

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2428650

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：547 / 552

页数：6

共 6 条

CHAPIN, DM ;

FULLER, CS ;

PEARSON, GL .

[2] DIFFUSION OF DONOR AND ACCEPTOR ELEMENTS IN SILICON [J].

FULLER, CS ;

DITZENBERGER, JA .

[3] DIFFUSION OF BORON AND PHOSPHORUS INTO SILICON [J].

FULLER, CS ;

DITZENBERGER, JA .

[4]

PEARSON GL, 1954, P I RADIO ENG, V42

[5]

TANENBAUM M, 1955, BELL SYST TECH J, V34, P105

[6]

TANENBAUM M, COMMUNICATION