ELECTROCHEMICAL DIFFUSION OF ARSENIC IN SILICON THROUGH THERMAL THIN SIO2-FILMS

被引：1

作者：

MARTINEZ, JL

RUIZ, JC

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1982年 / 40卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1063/1.93169

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：630 / 631

页数：2

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共 6 条

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