BEHAVIOR OF IONS IN SIO2

被引：9

作者：

WILLIAMS, R ^{[1
]}

机构：

[1] RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1974年 / 11卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1318675

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1025 / 1027

页数：3

相关论文

共 13 条

WILLIAMS, R ;

WOODS, MH .

[12]

WILLIAMS RW, TO BE PUBLISHED

WOODS, MH ;

WILLIAMS, R .