REACTIVE ION ETCHING FOR SUB-MICRON STRUCTURES

被引：15

作者：

CHINN, JD ^{[1
]}

ADESIDA, I ^{[1
]}

WOLF, ED ^{[1
]}

TIBERIO, RC ^{[1
]}

机构：

[1] CORNELL UNIV,SCH ELECT ENGN,ITHACA,NY 14853

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571222

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1418 / 1422

页数：5

共 6 条

[1]

ADESIDA I, 1979, THESIS U CALIFORNIA

BROERS, AN .

[3] PLASMA-ETCHING - DISCUSSION OF MECHANISMS [J].

COBURN, JW ;

WINTERS, HF .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (02) :391-403

[4]

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EPHRATH, LM .

[6]

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