SOLID-STATE REACTIONS WITH HEXAFLUOROSILICATE

Es wird die thermische Zersetzungsreaktion von Na2SiF6, BaSiF6 und besonders von K2SiF6 beschrieben. Bei K2SiF6 tritt im Röntgendiagramm eine Linie bei d = 4,07 Å auf, die nicht einer Cristobalitbildung zugeschrieben werden kann. Sie ist vielmehr dem Abstand von bei der Zersetzung entstandenen KF‐Ebenen zuzuordnen, die der bei Austauschreaktionen festgestellten aktiven KF‐Komponente entsprechen. Kristallines KF tritt dabei im Röntgenbild nicht auf. Eine analoge Linienveränderung wird bei Rb2SiF6 (d = 4,22 Å) gefunden. Die Wirkung einer aktiven SiF‐Komponente bei der Zersetzung kann in der Reaktion mit NaCl festgestellt werden, wo ein F‐Transport in die NaCl‐Schicht und ein Cl‐Transport in die K2SiF6‐Schicht beobachtet wird. Ein äquivalenter Kationentransport tritt unter diesen Bedingungen noch nicht ein. Copyright © 1979 Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim