SPUTTERING OF OXIDE FILMS IN PLASMA ANODIZATION OF ALUMINUM

被引：15
作者：
LOCKER, LD
SKOLNICK, LP
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1968年 / 12卷 / 11期
关键词：
D O I：
10.1063/1.1651871
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：396 / &
相关论文
共 5 条
[1]   SPUTTERING DUE TO NEGATIVE OXYGEN IONS IN OXYGEN DISCHARGES [J].
JENNINGS, TA ;
MCNEILL, W .
APPLIED PHYSICS LETTERS, 1968, 12 (02) :25-&
[2]  
LOCKER LD, 1968, JOM-J MIN MET MAT S, V20, pA23
[3]   THE FORMATION OF METAL OXIDE FILMS USING GASEOUS AND SOLID ELECTROLYTES [J].
MILES, JL ;
SMITH, PH .
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1963, 110 (12) :1240-1245
[4]  
TERRY LE, 1964, SCTM3076314 AEC REP
[5]  
TIBOL GJ, 1964, J ELECTROCHEM SOC, V111, P1363
1