PROCESS TECHNIQUES AND RADIATION EFFECTS IN METAL-INSULATOR SEMICONDUCTOR STRUCTURES

被引:14
作者
DENNEHY, WJ
HOLMESSI.AG
ZAININGE.KH
机构
关键词
D O I
10.1109/TNS.1967.4324807
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页码:276 / &
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