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MULTIPLE PULSE IMPLANTATION DOPED LAYERS IN SILICON
被引：0
作者：
WERNER, Z
PIEKOSZEWSKI, J
POCHRYBNIAK, C
HARATYM, Z
SULIK, A
机构：
来源：
EPM 87: ENERGY PULSE AND PARTICLE BEAM MODIFICATION OF MATERIALS
|
1988年
/
8卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：312 / 314
页数：3
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