ABOUT THE OXIDATION OF SICL4 AND GECL4 IN HOMOGENEOUS GASEOUS-PHASE

被引：11
作者：
KLEINERT, P
SCHMIDT, D
KIRCHHOF, J
FUNKE, A
机构：
来源：
KRISTALL UND TECHNIK-CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY | 1980年 / 15卷 / 09期
关键词：
D O I：
10.1002/crat.19800150918
中图分类号：
O7 [晶体学];
学科分类号：
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要：
引用
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页码：K85 / K90
页数：6
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