COMPARISON BETWEEN CVD AND THERMAL OXIDE DIELECTRIC INTEGRITY

被引：36
作者：
LEE, J
CHEN, IC
HU, C
机构：
来源：
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS | 1986年 / 7卷 / 09期
关键词：
D O I：
10.1109/EDL.1986.26454
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
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页码：506 / 509
页数：4
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共 7 条
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