PRACTICING THE NOVOLAC DEEP-UV PORTABLE CONFORMABLE MASKING TECHNIQUE

被引：39

作者：

LIN, BJ

BASSOUS, E

CHAO, VW

PETRILLO, KE

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571267

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1313 / 1319

页数：7

共 14 条

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